第320章 掌握1纳米芯片工艺

    ??终於众人参观完麦斯科技发展史，来到了展览的核心车间。

    ??在展览核心车间，这里有着麦斯科技一代一代的光刻机产品。

    ??当然前面的几台产品，众人并不怎麽感兴趣。

    ??因为来到这里的各国客户，无疑都为了最先进的DUV而来，当然还想目睹一下顶尖的EUV光刻机。

    ??“各位朋友，这就是我们公司先进的DUV光刻机了。”

    ??麦斯副总介绍着。

    ??当然这里面包括光刻机的参数，还有应用之类的。

    ??按照目前的最先进DUV光刻机的参数，完全可以制造7纳米工艺的芯片。

    ??但是这其中可能需要多重曝光才行的，效率当然没有EUV光刻机了。

    ??如果需要制造5纳米芯片，甚至更小精度的芯片，则就需要EUV光刻机了。

    ??苏浩看着眼前的DUV光刻机，然後立刻开启了超能扫描。

    ??很快眼前这台DUV光刻机的所有数据全部被他复制了，接着这台DUV光刻机的制造方法他直接领悟掌握了。

    ??不但如此，苏浩竟然从这台DUV光刻机超能领悟到了波长为10-14纳米的极